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금속 나노패터닝과 화학적 에칭 공정을 이용한 실리콘 나노튜브 제조방법

금속 나노패터닝과 화학적 에칭 공정을 이용한 실리콘 나노튜브 제조방법

기술분야 : 화학 기술유형 : 출원특허
기간 : 2019-08-02~2019-12-31 개발상태 : 시작품
보유기관 : 한국기계연구원 보유국가 : 국내
양도 : 500 만원

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기술요약

금속 나노패터닝과 화학적 에칭 공정을 이용한 실리콘 나노튜브 제조방법은 실리콘층을 준비하는 준비단계; 상기 실리콘층 상측에 튜브형상의 음각패턴이 형성된 금속층을 적층하는 적층단계; 패터닝된 금속을 이용한 화학적 에칭(Metal-Assisted Chemical Etching) 공정으로 상기 실리콘층을 에칭하여 튜브형상의 실리콘 나노튜브를 제조하는 에칭단계를 포함하는 것을 특징으로 함

금속 나노패터닝과 화학적 에칭 공정을 이용한 실리콘 나노튜브 제조방법을 개략적으로 도시한 순서도